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地 址:上海市浦東外高橋自貿(mào)區(qū)富特東三路526號(hào)5號(hào)樓311室
GALVANOTEST庫(kù)侖測(cè)厚儀
德國(guó)EPK庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀GalvanoTest ,應(yīng)用庫(kù)侖電量分析原理。其過(guò)程類似于電鍍,但電化學(xué)反應(yīng)的方向相反,是電解除鍍??梢杂糜跍y(cè)量幾乎所有基體上的電鍍層厚度?;w包括鋼鐵、有色金屬以及絕緣材料。例如鐵上鑷、鐵上鋅、銅上銀、環(huán)氧樹(shù)脂上的銅等。
庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀GALVANOTEST參數(shù)
庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀GALVANOTEST 可以測(cè)量 | 2000 | 3000 |
可以測(cè)量70種以上鍍層/基體組合 | ● | ● |
可以測(cè)量平面、曲面上的鍍層 | ● | ● |
可以測(cè)量小零件、導(dǎo)線、線狀零件 | ● | ● |
預(yù)置10種金屬的測(cè)量參數(shù):Cr鉻、Ni鎳、Cu銅、黃銅、Zn鋅、Ag銀、Sn 錫、Pb鉛、Cd鎘、Au金(需提供樣品確定) | ● | |
預(yù)置9種金屬的測(cè)量參數(shù):Cr鉻、Ni鎳、Cu銅、黃銅、Zn鋅、Ag銀、Sn 錫、Pb鉛、Cd鎘。 | ● | |
用戶可另設(shè)置8種金屬的測(cè)量參數(shù) | ● | |
用戶可另設(shè)置1種金屬的測(cè)量參數(shù) | ● | |
庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀測(cè)量機(jī)構(gòu): | ||
帶循環(huán)泵 | ● | |
帶氣泵 | ● | |
庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀測(cè)量面積: | ||
密封墊 8 mm2 | ● | |
密封墊 4 mm2 | ● | ● |
密封片 1 mm2 | ● | ● |
密封片 0.25 mm2(涂鍍層面積幾乎小得看不見(jiàn)) | ● | |
電解杯 0.25-16 mm2 (可選件) | ● | ● |
庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀測(cè)量參數(shù)*化調(diào)整: | ||
除鍍速度0.3-40 μm/分鐘可調(diào) | ● | ● |
根據(jù)金屬和測(cè)量表面可直接調(diào)整系數(shù) | ● | ● |
可用厚度標(biāo)準(zhǔn)樣板校準(zhǔn) | ● | ● |
可調(diào)整終點(diǎn)電壓,以抗干擾,適應(yīng)鍍層/基體之間的合金 | ● | ● |
GALVANOTEST的數(shù)據(jù)存儲(chǔ) | ||
可存儲(chǔ)不同金屬測(cè)量參數(shù)的數(shù)目 | 10 | 18 |
可存儲(chǔ)的讀數(shù)和統(tǒng)計(jì)值 | 2000 | 2000 |
儀器斷電后可保持所有校準(zhǔn)值、讀數(shù)、統(tǒng)計(jì)值。 | ● | ● |
庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀統(tǒng)計(jì)計(jì)算: | ||
顯示6種統(tǒng)計(jì)值:均值、標(biāo)準(zhǔn)偏差、變異系數(shù)、zui大、zui小值、讀數(shù)個(gè)數(shù) | ● | ● |
立即或稍后顯示統(tǒng)計(jì)值 | ● | ● |
立即或稍后打印讀數(shù)和統(tǒng)計(jì)值 | ● | |
顯示、打印年、月、日、時(shí)、分 | ● | ● |
用于外設(shè)的計(jì)算機(jī)接口: | ||
MINIPRINT 微型打印機(jī)接口 | ● | ● |
RS-232,PC計(jì)算機(jī)接口 | ● | ● |
連接x-t計(jì)錄儀模擬電壓輸出接口 | ● | ● |
電解液飽和報(bào)警指示 | ● | |
測(cè)量的不確定性: | ||
5%,在8mm2面積下,經(jīng)校準(zhǔn) | ● | ● |
庫(kù)侖鍍層測(cè)厚儀電源: | ||
110/220V,50/60HZ,10W | ● | ● |
測(cè)量范圍: | ||
zui大測(cè)量范圍:0.05-75μm | ● | ● |
說(shuō)明
GalvanoTest庫(kù)侖測(cè)厚儀由三大部分組成:
1、GalvanoTest測(cè)量杯:根據(jù)儀器型號(hào)不同,電解液由氣泵或循環(huán)泵驅(qū)動(dòng),在測(cè)量杯中流動(dòng),保證測(cè)量區(qū)域平穩(wěn)除鍍,保證電解液*利用。對(duì)導(dǎo)線或小零件,還可以選用電解杯,測(cè)量時(shí)把它們浸入電解液中。
2、GalvanoTest支架:用支架固定被測(cè)樣品,將測(cè)量杯和被測(cè)樣品定位。循環(huán)泵連接支架和測(cè)厚儀。
3、GalvanoTest儀器:由微處理器控制的測(cè)厚儀可以測(cè)量多種鍍層厚度。利用儀器的鍵盤調(diào)整儀器完成各種不同的測(cè)量任務(wù)。
GalvanoTest測(cè)量原理
根據(jù)法拉第原理測(cè)量。其過(guò)程類似于電鍍,但化學(xué)反應(yīng)的方向正好相反,是電解除鍍。按照鍍層/基體的組合,選擇電解液注入電解池。將電解液置于被測(cè)樣板。電解池和被測(cè)樣板之間嵌入密封墊圈,其作用一是確定測(cè)量面積,例如1mm2,二是防止電解液外泄。電流通過(guò)電解液,在一定的面積下產(chǎn)生電化學(xué)反應(yīng)。鍍層厚度就直接顯示在數(shù)字顯示器上。
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