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Elektrophysik膜厚儀GALVANOTEST 2000電解液選擇
電解液選擇表:
1)對于鉛測量,請在達到30微米涂層厚度時更新電解液
2)s。 第8.9節(jié)(CU / Zn)
3)s。 第8.10節(jié)(SN / MS)
4)錫/鋅78%22%
8)請?zhí)貏e注意測量。 如有需要,請ElektroPhysik或您當?shù)氐慕?jīng)銷商。
ST)涂層厚度標準庫存
Elektrophysik膜厚儀GALVANOTEST 2000電解液選擇
測量原理:是基于法拉第定律。與電鍍方法相反,涂層從樣品中電化學去除。為此,將不銹鋼測量池放置在要測量的樣品上。電池填充有根據(jù)涂層/基底組合選擇的電解質(zhì)溶液。放置在電池和樣品之間的橡膠墊圈限定了測量區(qū)域,例如, 4平方毫米。測量裝置電連接到電子處理單元。當接通時,恒定電流流過電解液,以電化學方式去除電化學金屬涂層。
在整個去鍍過程中,可以在測量單元和待測量物體之間觀察到限定的電壓。 一旦金屬涂層被*去除,就會發(fā)生特征電壓跳變。 該電壓跳變由測量計記錄,以中斷電源并停止定時器。 立即以厚度或微米顯示厚度。
典型應用:
破壞性測量:
電鍍涂層如金屬或非金屬基材上的鉻,鎳,鎘,銅,黃銅,銀,金,錫,鋅
儀器特征:
8脫鍍速度為0.3至40μm/ min
測量表面介于0.25和8mm²之間
測量范圍在50nm和75μm/ 0.002-3密耳之間
用于測量電線的電解質(zhì)燒杯(附件)
可變關(guān)閉速度,用于測量合金區(qū)域
用于小型部件和電線測量的各種特殊附件
數(shù)據(jù)存儲
可存儲不同金屬測量參數(shù)的數(shù)目
可存儲2000個讀數(shù)和統(tǒng)計值
儀器斷電后可保持所有校準值、讀數(shù)、統(tǒng)計值。
統(tǒng)計計算
顯示6種統(tǒng)計值:均值、標準偏差、變異系數(shù)、大、小值、讀數(shù)個數(shù)
立即或稍后顯示統(tǒng)計值
顯示、打印年、月、日、時、分
用于外設的計算機接口:
MINIPRINT 微型打印機接口
RS-232,PC計算機接口
連接x-t計錄儀模擬電壓輸出接口
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